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關(guān)鍵詞： (178個(gè)字符) 飛秒激光微納制造系統(tǒng)、 無掩模DLP投影光刻、 激光加工過程監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、 殘余應(yīng)力和內(nèi)應(yīng)力、 缺陷檢測(cè)系統(tǒng)、 高重頻高能量固體飛秒激光器、 自研高重頻高能量納秒激光器、 半導(dǎo)體連續(xù)激光器、 以及光譜系統(tǒng)、 超快光譜瞬態(tài)吸收系統(tǒng)、 mapping光譜儀系統(tǒng)、 活體成像系統(tǒng)、 微區(qū)角分辨光譜系統(tǒng)等、 科研級(jí)成像和探測(cè)主要代理深度制冷CCD、 SCMOS、 InGaAs、 ICCD、 EMCCD、
描述： (186個(gè)字符) 飛秒激光微納制造系統(tǒng),無掩模DLP投影光刻,激光加工過程監(jiān)測(cè)系統(tǒng),殘余應(yīng)力和內(nèi)應(yīng)力,缺陷檢測(cè)系統(tǒng),高重頻高能量固體飛秒激光器,自研高重頻高能量納秒激光器,半導(dǎo)體連續(xù)激光器,以及光譜系統(tǒng),超快光譜瞬態(tài)吸收系統(tǒng),mapping光譜儀系統(tǒng),活體成像系統(tǒng),微區(qū)角分辨光譜系統(tǒng)等,科研級(jí)成像和探測(cè)主要代理深度制冷CCD,SCMOS、InGaAs、ICCD、EMCCD......等。
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